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爱德万高速电子束曝光系统F7000 [复制链接]

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离线miriam
 

只看楼主 倒序阅读 使用道具 楼主   发表于: 2016-06-16

爱德高速电子束曝光系统F7000


作为下一代光刻技术的候选者之一,电子束曝光技术由于其高分辨率和低制作周期,被认为是极具前景的技术。然而,电子束曝光相关技术的研究在60年代就已经开始,却始终未进入大规模半导体生产领域,主要原因是由于曝光效率远远低于光学光刻。

提高曝光效率的关键因素是减少电子束照射次数,事实证明,采用新型电子束字符投影方式,可有效降低照射次数,从面大幅提高曝光效率。

F7000适用于十几纳米以下工艺的先进集成电路, MEMS,大面积纳米光学等器件的开发和生产。
  
更多信息请见www.advantest.com  
离线李壮

只看该作者 沙发   发表于: 2016-12-17
您好,有这方面的资料吗?比如操作手册或是这方面的工艺资料,有的话可以发我看看,感谢!
924700671@qq.com
离线jvgahzebh

只看该作者 板凳   发表于: 2017-02-14
赞扬的就是顶贴
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